2012年7月20日，接到山东的一个咨询电话，他们的搪玻璃设备总是大面积损坏，经过进一步了解该设备为荧光粉生产设备之一，需要使用红外线加热纯净水，在上下加热区域出现大面积爆瓷，另外整个搪玻璃设备瓷面失光发毛。进一步了解，加热装置设定的加热温度为300℃，纯净水进入设备时的温度为80℃，出现爆瓷后也怀疑是温差过大造成的，但是降低了红外线输出温度，升温的时间就要延长两个多小时，严重的影响了生产。综合以上情况认为，搪玻璃设备瓷层耐冷冲击的极限为110℃、耐热冲击的极限为120℃，该设备在加入纯净水后升温以及升温后放出高温水再加入水的过程，釜壁与釜内水的温差超过了瓷层耐冷热冲击的极限，上下加热区域出现大面积爆瓷的原因是釜壁温度与釜内介质温度相差过大造成的，瓷面失光发毛因为水在100℃以上电离加剧，100℃时比常温下电离度增大约55倍，温度越高电离增大倍数越高，水中的氢离子与瓷层中的钠离子置换，瓷层的硅-氧-钠交链变为硅-氧-氢，置换出来的钠离子与蒸馏水中的氢氧根离子组成氢氧化钠，致使附着在瓷层表面的水呈碱性，进而腐蚀瓷层。同样温度时普通水、软水、纯水中的氢离子浓度是相同的，由于不同的水其它离子的含量不同，对瓷面的腐蚀亦不同，纯净水较普通水严重。